迈向半导体制造的“极端耐受”:抗等离子清洗润滑脂的关键技术与应用

迈向半导体制造的“极端耐受”:抗等离子清洗润滑脂的关键技术与应用

在现代半导体制造、平板显示(FPD)及精密光电仪器的生产过程中,等离子清洗(Plasma Cleaning)与等离子体刻蚀(Plasma Etching)是不可或缺的核心工艺。它们利用高能等离子体轰击工件表面,以达到原子级的清洁与表面改性。然而,这种极端的物理与化学环境,却成了真空腔体内部机械传动部件(如真空机械手、线性导轨、滚珠丝杠等)的“噩梦”。普通润滑脂在强等离子体轰击下会迅速分解、挥发,导致润滑失效,甚至产生严重的微粒污染(Particle)。...

文章详情 2026-07-06
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