在半導體行業中，潤滑脂的選擇至關重複要，因為它直接影響到設備的運行效率、壽命以及產品的良率。以下從性能要求、應用場景、品牌與質量、兼容性與認證、成本與供應幾個關鍵維度，為你詳細介紹如何選擇合適的半導體行業潤滑脂：為了滿足嚴格的精度要求，半導體製造設備的軸承和齒輪所需的潤滑劑必須防止磨損，提供長壽命潤滑，並將擦扭矩降至最低。這些潤滑劑需要滿足清潔度要求，在存在腐蚀性工藝氣體和化學物質的環境中耐腐蚀，同時在最小動態顆粒生成的情況下保持使用的穩定性。潤滑脂需要調以確保適當的膜厚，以減少移動部件之間的摩擦，防止磨損和部件粘連。在真空工藝條件下，齒輪和軸承可能會暴露在超高真空、高溫以及嚴苛的化學物質、腐蚀性和氧化性氣體中。在這種環境下，需要一種低氣體排放、低動態顆粒生成、化學惰性、長壽命且具有優異耐磨性的潤滑脂。
了解不同應用場景對潤滑脂的需求
1.芯片製造設備：芯片製造設備對潤滑脂的要求極為苛刻，涉及到光刻機、刻蚀機、離子注入機等高精度設備。在這些設備中，潤滑脂主要用於軸承、導轨、絲槓等運動部件的潤滑。例如，光刻機的精密導轨需要在納米級別的精度下運動，潤滑脂不僅要滿足上述的低揮發性、高純度等要求，還需要具有良好的潤滑性能，以減少摩擦和磨損，保證導轨的運動精度。對於這類設備，通常推荐使用塞維歐Seivio VacuLub H002超高真空潤滑脂是由蒸汽壓極低的直链全氟聚醚油，超精細PTFE稠化。並添加特種抗腐蚀添加劑精製而成的。優化了生產工藝，通過烘烤、預抽氣降低揮發風險。 稠度隨溫度變化極小，揮發性極低，使用壽命極長；預脫氣處理，高溫烘烤（如125°C/24小時），加速揮發物釋放；具有極低的除氣率，完美解決了在真空和高溫下油脂揮發、釋放顆粒物等問題；具有良好的高溫穩定性和真空穩定性；優異的抗磨損、抗擦傷、抗燃燒、抗辐射、抗腐蚀性；低摩擦係數、高承載能力，與絕大多數橡膠、塑料良好相容；具有極高的化學穩定性，不與工藝氣體中的酸、鹼和高活性物質發生反應。適用於長期高溫/高真空環境、半導體製造設備/電子顯微鏡（如掃描電鏡SEM、透射電鏡TEM）,如薄膜沉積設備、光刻機、刻蚀機、離子注入機、爐管、清洗設備、CMP等（滑動、滾動軸承、滾珠絲桿、導轨、滑塊、旋轉部件、螺桿機構、阀桿、特種馬達）等。如：真空镀膜機、真空絲印機、真空刷闆機。以及Seivio VacuLub L250真空潤滑脂係列。
2.芯片封裝設備：芯片封裝設備包括貼片機、鍵合機、塑封機等，其工作環境相對芯片製造設備稍寬鬆一些，但仍然對潤滑脂的性能有較高要求。例如，貼片機的吸嘴在高速運動過程中需要潤滑脂來減少摩擦，同時要避免潤滑脂污染芯片。對於這類設備，可以選擇合成烃基或硅基潤滑脂，它們在滿足基本潤滑要求的同時，具有較好的化學穩定性和一定的耐溫性能。如：塞維歐Seivio VacuLub K209高真空潤滑脂 是由蒸汽壓極低的直链全氟聚醚油，超精細PTFE稠化。並添加特種抗腐蚀添加劑精製而成的。
3.半導體測試設備：半導體測試設備用於對芯片進行電學性能測試，其運動部件的潤滑要求主要是保證設備的穩定運行和測試精度。例如，測試探針臺的探針卡需要在高頻次的運動中保持精準的定位，潤滑脂需要具有良好的減震和降噪性能。對於這類設備，可以根據具體的工作溫度和負載情況，選擇合適的潤滑脂，如：塞維歐VacuLub 3083 半導體真空低揮發潤滑脂。半導體、潔淨室和真空製造環境中使用機器人來處理和轉移晶圓、平闆顯示器和其他材料。機器人通常暴露在高真空、高溫條件下，並且偶爾會接觸到腐蚀性化學品。這些極端條件需要含氟潤滑脂來確保機器人精密金屬軸承的穩定性能。
一、低釋氣率
釋氣是一種類似於蒸發的現象，指的是液體或固體材料中微小分子的釋放。在真空環境下運行時，蒸發損失會加速，隨著時間的推移，潤滑脂的完整性會逐漸受損。低排氣潤滑劑
能夠減少材料損失，提供更持久的潤滑性能。氣體分子可能會凝結在錶麵，並作為污染物附著在晶片、加 工設備和其他敏感部件上。潤滑劑廢氣根據ASTM E595進行總質量損失(TM)和收集的揮發性冷凝物(CVCM) 中選擇所需的參數。我們的潤滑劑符合半導體行業對廢氣的
嚴格限製。當潤滑脂氣化時，會釋放出可冷凝的物質，這些物質可能會污染晶圓、加工設備和其他敏感組件。潤滑劑氣化量以總質量損失 (TML) 和收集的揮發性冷凝物 (CVCM) 來衡量，符合 ASTM E595 標準。 半導體行業規定的可接受氣化極限為 TML 為 1% 或更少，CVCM 為 0.10% 或更少。塞維歐的潤滑脂遠低於這些可接受的氣化極限。塞維歐可以收集這些冷凝物並進行殘餘氣體分析 (RGA)，以識別從潤滑脂釋放到係統中的材料。
二、低發塵
動態顆粒生成這個術語描述了當污染物被強製或噴射出潤滑的滾珠絲槓、軸承或齒輪係統進入工作環境時發生了什麼。這些污染物可能包括基礎油成分、增稠劑顆粒、添加劑等，並通過動態機械作用從潤滑脂中釋放出來，無論是滾動、滑動還是二者的組合。塞維歐的應用開發和驗證測試實驗室的工程師們開發了一種專有的 測試方法和裝置 ，用於在這些動態條件下測量和量化顆粒生成。該測試的結果提供了寶貴的數據，可用於開發低顆粒生成的專用潤滑劑。
三、耐高溫
潤滑脂需要在高溫環境下保護機械部件，防止其蒸發。高溫下蒸汽壓上升，容易產生氣體。塞維歐的許多真空和清潔室潤滑脂都是按照在200℃以上溫度下發揮性能的要求配製的。
四、潔淨度等級
在真空和潔淨室環境中的製造設備非常敏感，即使是最微小的顆粒物也可能導緻產品失效。確保潤滑劑清潔度的最好方法是通過 超濾 消除潤滑劑中的微小顆粒物。塞維歐可以對潤滑脂和油進行超濾，以消除半導體應用中的可能污染物。
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